Nanohuzal tranzisztorokkal innoválna a Samsung

Már 7 nanométeren leváltaná a FinFET-et a Samsung, a vállalat mindössze két generáció után állna át a potenciális jövőt jelentő Gate-All-Around tranzisztorokra.


Source: http://www.hwsw.hu/

Minden vélemény számít!

Az email címet nem tesszük közzé. A kötelező mezőket * karakterrel jelöljük.